Is ábhar leictreonach é sprioc sputtering a fhoirmíonn scannán tanaí trí shubstaint mar chóimhiotal nó ocsaíd miotail a cheangal le foshraith leictreonach ag leibhéal adamhach.Ina measc, úsáidtear an sprioc sputtering don scannán dubhaithe chun scannán a dhéanamh ar an bpainéal EL orgánach nó ar an bpainéal leachtchriostail chun an sreangú a dhubhú agus an frithchaitheamh solais infheicthe (frithchaiteacht íseal) den sreangú TFT a laghdú.Tá na buntáistí agus na héifeachtaí seo a leanas ag an sprioc sputter.I gcomparáid leis na táirgí roimhe seo, cuidíonn sé le feabhas a chur ar an leibhéal ard míne agus saoirse dearadh na taispeántais éagsúla, agus laghdú ar an torann de bharr an sreangú solas léirithe táirgí leathsheoltóra.
Buntáistí agus éifeachtaí sprioc alúmanam:
(1) Tar éis an sprioc alúmanaim a fhoirmiú ar an sreangú, is féidir an solas infheicthe a laghdú
i gcomparáid le táirgí roimhe seo, is féidir leis machnamh íseal a bhaint amach.
(2) Is féidir sputtering DC a dhéanamh gan gás imoibríoch
i gcomparáid le táirgí roimhe seo, tá sé ina chuidiú aonchineálacht scannáin foshraitheanna móra a bhaint amach.
(3) Tar éis an scannán a fhoirmiú, is féidir an próiseas eitseála a dhéanamh in éineacht leis an sreangú
an t-ábhar a choigeartú de réir phróiseas eitseála an chustaiméara atá ann cheana féin, agus is féidir é a eitseáil mar aon leis an sreangú gan an próiseas atá ann cheana féin a athrú.Ina theannta sin, cuirfidh an chuideachta tacaíocht ar fáil freisin de réir coinníollacha sputtering na gcustaiméirí.
(4) Friotaíocht teasa den scoth, friotaíocht uisce agus alcaile
i dteannta le friotaíocht uisce agus friotaíocht alcaile, tá friotaíocht ard teasa aige freisin, mar sin ní athróidh saintréithe an scannáin i bpróiseas próiseála sreangú TFT.
Am postála: Lúnasa-10-2022