Tionóladh an Cúigiú Fóram Nuálaíochta agus Forbartha Teicneolaíochta Fholúis Guangdong Hong Cong Macao go rathúil

Ar 18-21 Samhain, tionóladh an Cúigiú Seisiún Guangdong Hong Cong Macao fóram nuálaíochta agus forbartha i bhfolús teicneolaíochta faoin téama "Ábhair Nua, Fuinneamh Nua, Deiseanna Nua" i Zengcheng, Guangdong.Ghlac breis is 300 saineolaí saineolaithe, 10 nEagraíochtaí Acadúla agus 30 Fiontar sa Tionscal Nanaitheicneolaíochta páirt sa Seisiún seo, lena n-áirítear oifigigh rialtais cúige, taighdeoirí ó chomhlachas cúige don eolaíocht agus don teicneolaíocht, agus taighdeoirí ó fhoireann acadúil Acadamh Eolaíochtaí na Síne.

Thug Ollúna ó Ollscoil Tsinghua, Ollscoil Nanjing, Ollscoil Eolaíochta agus Teicneolaíochta an Deiscirt agus Ollscoileanna agus Institiúidí Taighde eile 35 Tuairisc a chlúdaigh trí phríomhábhar: “Meaisín agus Teicneolaíocht Brataithe Fholúis”, “Scannáin Thin agus Feiste Fótaileictreach Feidhme” agus “ardfhriotaíocht caithimh. sciath agus innealtóireacht dromchla”, a thugann léargas ar an taighde eolaíoch agus na teicneolaíochtaí is déanaí chomh maith le forbairt nuálaíochtaí agus teicneolaíochtaí a chur chun cinn sa Tionscal Cumhdach Fholúis.

Áirítear ar na tuarascálacha:
“Forbhreathnú ar na deiseanna nua, na dúshláin, agus na hathruithe teicneolaíochta laistigh den tionscal maidir le spriocanna sputtering agus scannáin sputtered”
“Forbairt Teicneolaíochta ar Chumhdach PVD do thionscail aeraspáis”
“Deiseanna agus Dúshláin a bhaineann le Cadhnraí Litiam”
“Miccreastruchtúr/nana-mhonarú agus feidhmiú”
“CVD agus diamaint shintéiseacha”
"Ábhair agus scannáin tanaí"
“Teicneolaíochtaí Scannán tanaí, Nana agus Ultrathin”
“Córais mhicrileictreomeicniúla agus nana-leictreomeicniúla”
“Modh Próiseála na n-ábhar Leictreonach agus fótónach”
“Modhanna Táirgthe Ionstraim Bheacht agus Ionstraim ultrabheacht”
“Forbairtí Teicneolaíochta is Déanaí ar Chaidéil Mhóilíneach Turbo”
“Eolaíocht agus Teicneolaíocht Plasma”

Tugadh cuireadh do thriúr toscaire ó Rich Special Materials mar Shaineolaithe sa Tionscal Folús agus ghlac siad páirt sa Seisiún.Rinne siad idirghníomhú le saineolaithe eile, le fiontraithe, agus le taighdeoirí faoi ghníomhaíochtaí T&F le déanaí agus na forbairtí is déanaí sa phróiseas sputtering.Is deis mhaith é seo dúinn a bheith faoi lé faisnéis phearsanta, ár n-iomaíochas teicneolaíochta a neartú agus deiseanna comhair agus gnó a fhiosrú.