Tá margadh leathan, réimse iarratais agus forbairt mhór ag an sprioc sa todhchaí.D'fhonn cabhrú leat tuiscint níos fearr a bheith agat ar na spriocfheidhmeanna, anseo thíos tabharfaidh an t-innealtóir RSM isteach go hachomair príomhriachtanais fheidhmiúla an sprice.
Íonacht: tá íonacht ar cheann de na príomhtháscairí feidhmiúla den sprioc, toisc go bhfuil tionchar mór ag íonacht an sprioc ar fheidhm an scannáin.Mar sin féin, i gcur i bhfeidhm praiticiúil, tá riachtanais íonachta an sprioc difriúil freisin.Mar shampla, le forbairt go mear ar thionscal na micrileictreonaic, leathnaítear méid na wafer sileacain ó 6 "go 8" go 12", agus laghdaítear an leithead sreangú ó 0.5um go 0.25um, 0.18um nó fiú 0.13um.Roimhe seo, is féidir le 99.995% den íonacht sprioc freastal ar riachtanais phróiseas 0.35umic, agus éilíonn ullmhú línte 0.18um 99.999% nó fiú 99.9999% den íonacht sprioc.
Ábhar eisíontais: is iad neamhíonachtaí sna solaid sprice agus ocsaigin agus gal uisce i bpiocháin na príomhfhoinsí truaillithe de chuid scannán taiscthe.Tá ceanglais dhifriúla ag spriocanna chun críocha éagsúla maidir le hinneachar eisíontais éagsúla.Mar shampla, tá ceanglais speisialta ag spriocanna cóimhiotal alúmanaim agus alúmanaim íon a úsáidtear sa tionscal leathsheoltóra maidir le hábhar miotail alcaile agus ábhar eilimint radaighníomhach.
Dlús: d'fhonn na pores sa sprioc soladach a laghdú agus feidhm scannán sputtering a fheabhsú, de ghnáth is gá go mbeadh ard-dlús ag an sprioc.Ní hamháin go mbíonn tionchar ag dlús an sprioc ar an ráta sputtering, ach bíonn tionchar aige freisin ar fheidhmeanna leictreacha agus optúla an scannáin.Dá airde an dlús sprice, is amhlaidh is fearr feidhm an scannáin.Ina theannta sin, feabhsaítear dlús agus neart an sprioc ionas gur féidir leis an sprioc glacadh níos fearr leis an strus teirmeach sa phróiseas sputtering.Tá dlús ar cheann de phríomhtháscairí feidhme na sprice freisin.
Am postála: Bealtaine-20-2022