Is modh sciath gal fisiceach nua é sciath sputtering Magnetron, i gcomparáid leis an modh sciath galú níos luaithe, tá a buntáistí i go leor gnéithe thar a bheith suntasach.Mar theicneolaíocht aibí, cuireadh sputtering magnetron i bhfeidhm i go leor réimsí.
Prionsabal sputtering Magnetron:
Cuirtear réimse maighnéadach orthogonal agus réimse leictreach idir an sprioc-cuaille sputtered (catóide) agus an anóid, agus líontar an gás támh riachtanach (gás Ar de ghnáth) sa seomra ardfholús.Cruthaíonn an maighnéad buan réimse maighnéadach 250-350 gaus ar dhromchla an ábhair sprice, agus tá an réimse leictreamaighnéadach orthogonal comhdhéanta leis an réimse leictreach ardvoltais.Faoi éifeacht réimse leictrigh, tá ionization gáis Ar isteach iain dearfacha agus leictreoin, sprioc agus tá brú diúltach áirithe, ón sprioc ón cuaille trí éifeacht réimse maighnéadach agus méadú ar an dóchúlacht ag obair ianaithe gáis, plasma dlús ard in aice leis an. catóide, Ar ian faoi ghníomhaíocht fórsa lorentz, luas suas chun eitilt go dtí an dromchla sprice, bombarding dromchla sprice ag luas ard, Leanann na hadaimh sputtered ar an sprioc prionsabal na comhshó móiminteam agus eitilt ar shiúl ón spriocdhromchla le cinéiteach ard fuinneamh don scannán taiscthe tsubstráit.
Roinntear sputtering Magnetron go ginearálta ina dhá chineál: sputtering DC agus sputtering RF.Tá prionsabal an trealaimh sputtering DC simplí, agus tá an ráta tapa nuair a bhíonn miotail á sputtering.Tá úsáid sputtering RF níos fairsinge, chomh maith le sputtering ábhair seoltacha, ach freisin sputtering ábhair neamhsheoltach, ach freisin ullmhú sputtering imoibríoch ocsaídí, nítrídí agus cairbídí agus ábhair chumaisc eile.Má mhéadaíonn minicíocht RF, bíonn sé ag sputtering plasma micreathonn.Faoi láthair, úsáidtear sputtering plasma micreathonn de chineál athshondais leictreoin (ECR) go coitianta.
Sprioc-ábhar sciath sputtering Magnetron:
Ábhar sputtering miotail sciath, ábhar sciath sputtering cóimhiotal sciath, ábhar sciath sputtering ceirmeach, sprioc-ábhar sputtering criadóireachta boride, sprioc-ábhar sputtering ceirmeach chomhdhúile, ábhar sputtering ceirmeach fluairíd, sprioc-ábhar sputtering ceirmeach nítríde, sprioc ceirmeach ocsaíd, sprioc-ábhar sputtering ceirmeach seiléiníde, sprioc-ábhar sputtering ceirmeacha silicíde, sprioc-ábhar sputtering criadóireachta sulfíde, sprioc sputtering ceirmeach Telluride, sprioc ceirmeach eile, sprioc ceirmeach ocsaíd sileacain dópáilte cróimiam (CR-SiO), sprioc fosfíd indium (InP), sprioc arsenide luaidhe (PbAs), indium arsenide sprioc (InAs).
Am postála: Lúnasa-03-2022